塗層孔隙/漏塗缺陷

圖解說明

須分別規定塗層方法與電氣連續性

5塗層孔隙/漏塗缺陷
須分別規定塗層方法與電氣連續性標號 1:電鍍。標號 2:化學鎳鍍層。標號 3:陽極氧化層。標號 4:層厚度。標號 5:孔隙/塗層漏點。電鍍使用電化學製程,化學沉積使用化學製程,而陽極處理會在指定合金上形成氧化層。厚度與缺陷仍須分別檢驗。 目前聚焦術語:塗層孔隙/漏塗缺陷;圖示標號 5。 1外部電源電鍍 2化學沉積化學鎳鍍層 3指定合金上的氧化層陽極氧化層 4垂直於表面的層層厚度 5孔隙/塗層漏點
  1. 電鍍

    以受控電化學製程沉積指定金屬。基材準備及沉積條件會影響塗層。

  2. 化學鎳鍍層

    鍍浴依指定化學製程沉積鎳。應索取該塗層的成分、準備方式及性能佐證。

  3. 陽極處理

    此製程在適用基材上形成氧化層。其厚度、封孔及用途須依實際規格確認。

  4. 鍍層厚度

    依指定方法沿垂直於塗層表面的方向量測厚度。應檢查局部變異及實際圖面限值。

  5. 塗層孔隙/漏塗缺陷本術語

    孔隙與塗層不連續可能形成不同的穿透路徑。檢驗須涵蓋相關缺陷及覆蓋要求。

電鍍採用電化學製程,化學鍍採用化學沉積製程,陽極處理則在指定合金表面形成氧化層。厚度與缺陷仍是獨立的檢查項目。

塗層概念剖面,未指定合金或厚度數值。這些製程名稱不能證明耐腐蝕或接觸性能相同。